Особенности спектров отражения тонких пленок углерода и кремния в видимой области
УДК 539.216
DOI:
https://doi.org/10.14258/izvasu(2022)4-09Ключевые слова:
тонкие пленки, отражательная способность, поглощательная способность, комплексный показатель преломления, интерференционные методыАннотация
Статья посвящена рассмотрению отражения видимого света от тонкой поглощающей пленки. По ряду причин в последнее время тонкие пленки являются предметом пристального изучения. В рамках работы были изготовлены несколько пленок неметаллов на стеклянной подложке: кремниевые пленки (путем резистивного испарения) и углеродные пленки (с помощью лазерного испарения). Полученные пленки имеют оптическую толщину в пределах 1 мкм (т.е. реальная толщина слоя находится в диапазоне 0,2-0,4 мкм) и при этом заметно поглощают световой поток. Пленки были обработаны по стандартной методике в видимой области с использованием спектрометра USB4000. Спектры отражения для каждой из пленок были построены для нескольких разных точек поверхности. Если не принимать во внимание различия в числовых значениях, то спектры выглядят аналогично. При больших длинах волн (в красной области) вклад интерференции лучей, отраженных от передней и задней границ, значителен, тогда как в области коротких волн (фиолетовая часть спектра) интерференция практически исчезает на фоне шумов прибора. Причины этого в том, что поглощение при распространении внутри пленки коротковолновой части существенно уменьшает интенсивность луча, отраженного от задней поверхности пленки.
Скачивания
Библиографические ссылки
Иовдальский В.И., Пелипец О.В., Зубков Н.П., Ковалев В.И. Исследование состава алмазоподобных пленок углерода, используемых в изделиях микроэлектроники // Водородное материаловедение и химия углеродных наноматериалов : сб. докл. XI Международной конф. Ялта, 2009.
Мансуров Г.Н., Петрий О.А. Электрохимия тонких металлических пленок. М., 2011.
Хорьков К.С., Герке М.Н., Прокошев В.Г., Аракелян С.М. Образование тонких углеродных пленок при воздействии фемтосекундного лазерного излучения в вакууме // Известия вузов. Химия и химическая технология. 2012. Т. 55. № 6.
Григорьев Ф.В. Математическое моделирование процесса напыления тонких пленок, их структуры и свойств : дисс. ... д-ра физ.-мат. наук. М., 2019.
Маскаева Л.Н., Федорова Е.А., Марков В.Ф. Технология тонкопленочных покрытий. Екатеринбург, 2019.
Юнович А.Э. Оптические явления в полупроводниках. М., 1989.
Карпова А.А., Котова Е.И., Парфенова А.Д., Щеглов С.А. Метод измерения параметров тонких пленок, разработанный на основе методов интерферометрии переменного угла падения // Наука и инновации в технических университетах : матер. XIII Всероссийского форума студентов, аспирантов и молодых ученых. СПб., 2019.
Ландсберг Г.С. Оптика. М., 2010.
Блох А.Г., Журавлев Ю.А., Рыжов Л.Н. Теплообмен излучением: справочник. М., 1991.
Лизункова Д.А. Исследование электрических и оптических свойств фоточувствительных структур на наноструктурированном кремнии : дисс. ... канд. физ.-мат. наук. Самара, 2018.
Соломатин К.В., Елькина Е.А. Определение толщины тонкой углеродной пленки оптическими методами : сб. науч. ст. VI Российско-Казахстанской молод. научн.-технич. конф. «Новые материалы и технологии». Барнаул, 2018.
Загрузки
Опубликован
Выпуск
Раздел
Лицензия
Izvestiya of Altai State University is a golden publisher, as we allow self-archiving, but most importantly we are fully transparent about your rights.
Authors may present and discuss their findings ahead of publication: at biological or scientific conferences, on preprint servers, in public databases, and in blogs, wikis, tweets, and other informal communication channels.
Izvestiya of Altai State University allows authors to deposit manuscripts (currently under review or those for intended submission to Izvestiya of Altai State University) in non-commercial, pre-print servers such as ArXiv.
Authors who publish with this journal agree to the following terms:
- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License (CC BY 4.0) that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).
